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選擇高溫管式爐生產廠家的要點 一、依據產品質量相關因素 工作溫度適配性 若工作溫度要求小于1200°C，可選擇爐管為石英管，加熱元件是含鉬電阻絲的管式爐；若工作溫度大于1200小于1400，可選擇爐管為氧化鋁，加熱元件是硅碳棒的管式爐；若工作溫度大于1400小于1700，能夠選擇爐管為氧化鋁，加熱元件是硅鉬棒的管式爐。
2024
11-13
在科研與材料開發(fā)的廣闊天地里，實驗室設備扮演著至關重要的角色，它們不僅是科研探索的基石，更是技術創(chuàng)新的重要推手。在眾多實驗室設備中，1800℃箱式電爐以其高溫處理能力、精確的溫度控制以及廣泛的應用領域，成為了材料科學、冶金工程、陶瓷制備等多個領域不可或缺的利器。本文將深入探討1800℃箱式電爐在實驗室中的應用，從其工作原理、結構特點、操作要點、維護保養(yǎng)到實際案例分析，全方位展現(xiàn)這一高科技設備的魅力。
2024
11-11
高溫接觸角測量儀是一種專門設計用于在高溫環(huán)境下測量液體與固體表面之間接觸角的儀器。這種設備在多個領域中發(fā)揮著重要作用，以下是其主要應用及其用途的詳細介紹。
2024
11-08
高溫氣氛箱式電爐是一種在特定氣氛環(huán)境下進行高溫處理的設備，廣泛應用于材料科學、冶金、化工及電子等領域。它通過精確控制爐內溫度、氣氛成分及壓力等參數，實現(xiàn)對材料的加熱、保溫、冷卻等全過程，有效避免材料在高溫處理過程中發(fā)生氧化、腐蝕等不良反應，保證材料性能的穩(wěn)定與提升。
2024
11-06
化學氣相沉積（CVD）系統(tǒng)是一種先進的薄膜沉積技術，廣泛應用于多個高科技領域。以下是CVD系統(tǒng)的一些主要應用： 半導體工業(yè) CVD技術在半導體工業(yè)中應用最為廣泛，用于沉積多種材料，包括絕緣材料、金屬材料和金屬合金材料。例如，氮化硅膜（Si3N4）可以通過硅烷和氮的反應形成。
2024
11-04
超潔凈真空氣氛燒結爐的產品優(yōu)勢 1、材料純度方面 在真空環(huán)境下，材料不會與氧氣或其他氣體發(fā)生化學反應，因此能夠保持材料的純度，避免雜質對材料性能的影響。 2、產品質量方面 真空燒結提供了均勻的溫度場，確保了材料在燒結過程中的一致性和均勻性，從而提高了產品的質量和性能。 3、能源利用方面 由于真空燒結爐在真空環(huán)境下工作，熱量損失較小，從而提高了能源的利用率。
2024
10-31
